2005年6月, 苏州晶方半导体科技股份有限公司（SSE：603005）成立于苏州，是一家致力于开发与创新新技术，为客户提供可靠的，小型化，高性能和高性价比的半导体封装量产服务商。晶方科技的CMOS影像传感器晶圆级封装技术，彻底改变了封装的世界，使高性能，小型化的手机相机模块成为可能。这一价值已经使之成为有史以来应用最广泛的封装技术，现今已有近50％的影像传感器芯片可使用此技术，大量应用于智能电话，平板电脑，可穿戴电子等各类电子产品。公司及子公司Optiz Inc.（位于Palo Alto，加州）将持续专注于技术创新。


赢咖7与晶方半导体的合作始于2011年，至今已经有7年！双方的合作是基于晶方半导体国产化的需求，同时对实力的认可。通过双方沟通，赢咖7了解到以下一些情况：

1、晶方半导体使用等离子清洗设备的主要目的：晶圆表面particle去除；焊锡球前焊盘的清洗，增加植球前的推力；硅片玻璃光刻胶去除和微刻蚀，以增加滚胶前结合力等。

2、晶方半导体已有几台进口等离子清洗设备，包括美国和韩国等离子清洗设备，运行比较稳定，但是由于通过等离子设备代理商购买，所以维护保养费用高而服务比较滞后。

3、根据晶方半导体产品的特点和产能需求，常规设备满足不了要求，需特殊设置和定制，而国外等离子清洗设备厂家显然难以配合。
 
事实上，赢咖7之前很少接触半导体行业，大多数小伙伴连晶圆和芯片都分不清楚，更不用说对工艺流程、处理参数和效果判定等的了解！勇于创新是赢咖7的特点，全力配合晶方半导体研制新型等离子清洗设备是赢咖7义不容辞的责任和荣幸。
 
赢咖7做了两件事：一方面，提供样机给晶方半导体做测试，抓参数，学工艺；另一方面，分析产品特点和处理要求，与晶方半导体相关人员随时互动，无论是电极设计、材料选型，还是人机界面的优化，都虚心听取意见，不断优化等离子清洗机解决方案。因此，赢咖7学到了不少专业知识，少走许多弯路，对半导体行业设备的要求有了基本认识，例如：

1、Particle的预防和去除。无论什么级别的洁净室，都会存在particle，是造成产品缺陷的主要原因之一。等离子清洗设备在处理腔室、电极、配件等材料选择，托架和电极结构等设计，维护保养的要求，方方面面都必须考虑尽可能避免产生新的particle。

2、等离子均匀性。气路、电极结构、托架样式、工艺参数等会影响产品处理的一致性。

3、设备稳定性。半导体产品的产能和附加值都很高，对设备的UPH（单位小时产能）指标非常看重。设备配置的选型和兼容，甚至软件的程序的编写，都会影响稳定性。
 
经过大家两个多月的共同努力，晶方半导体终于成功交付，等离子处理效果完全可以满足产品和工艺的要求！相关样品处理后效果测试举例：

1、硅片处理水滴角变化

等离子处理前52.76℃	等离子处理后3.62℃

2、玻璃处理水滴角变化

等离子处理前25.38℃	等离子处理前4.41℃

对于晶方半导体当初的选择，赢咖7一直心存感激；尤其是晶方半导体几位高层能给赢咖7试错机会的魄力，赢咖7向您们致敬！赢咖7会不断学习半导体知识，了解行业动态，利用所掌握的等离子技术接合客户需求，研制出更多符合半导体行业特点的，提供更好的服务给与回馈！
 
亲，如果您对等离子清洗机感兴趣或者想了解更多详细信息，欢迎点击赢咖7的在线客服进行咨询，或者直接拨打全国统一服务热线400-816-9009，赢咖7恭候您的来电！