等离子清洗机处理二氧化硅薄膜材料的过程是什么样的？
文章导读：在使用等离子清洗机的等离子工艺对材料进行辅助处理的过程中，气相和固体表面上发生的化学反应起到了关键性的作用。低温等离子表面处理机在刻蚀二氧化硅薄膜时也是如此，等离子表面处理设备的典型反应器中的发生过程如下图所示。这里所标注的通入气体是四氟化碳和氧气的混和物，等离子体由射频或微波电场激发。
在使用的等离子工艺对材料进行辅助处理的过程中，气相和固体表面上发生的化学反应起到了关键性的作用。低温等离子表面处理机在刻蚀二氧化硅薄膜时也是如此，等离子表面处理设备的典型反应器中的发生过程如下图所示。这里所标注的通入气体是四氟化碳和氧气的混和物，等离子体由射频或微波电场激发。
电子碰撞电离过程产生了各种离子，如CF3+、CF2+、O2+、O-和F-等；而电子碰撞分解过程产生了CF3、CF2、O和F等自由基。在气相中和在二氧化硅表面上发生的化学反应会产生另外一些分子，如CO、CO2、SiF2和SiF4等。这些粒子的浓度和能量分布影响着等离子表面处理机反应器的性能指标，如刻蚀速率、各向异性指数和选择性等。
一些普通物理化学过程决定了这些粒子的浓度。这些过程包括电子-离子对的产生；自由基的产生；负离子的产生；气相化学反应；离子向表面的输运；自由基向表面的输运；表面相反应。整个反应的过程用式子可以分别表达如下。
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