半导体究竟为何需要使用到连续式等离子清洗机？
文章导读：有那么一种高新技术设备叫做连续式等离子清洗机，它在半导体封装行业可谓是神兵利器，能够为半导体加工提供极大的便捷。虽然这个设备的名字听起来似乎有些拗口，但同时它还有着另外一个名字，就是在线式等离子清洗机，其作用是可以起到在流水线上连续进行等离子处理的作用。
有那么一种高新技术设备叫做连续式等离子清洗机，它在半导体封装行业可谓是神兵利器，能够为半导体加工提供极大的便捷。虽然这个设备的名字听起来似乎有些拗口，但同时它还有着另外一个名字，就是在线式等离子清洗机，其作用是可以起到在流水线上连续进行等离子处理的作用。
今天我们要说到的就是这个连续式等离子清洗机，看看它为何会应用到半导体行业当中？
连续式等离子清洗机的类型其实很多，主要是以放电形式和上下料自动动作来区分的。按照放电形式，可分为PE模式和RIE模式，这是与功率电极的连接、电极结构和产品放置相关的；按照上下料的方式，有平台交互式、抽屉式和一进一出式。
先就设备本身而言，连续式等离子清洗机它的主要组成部分有：上下料自动装置、真空系统、等离子发生器、气路控制和真空等离子反应腔体。
它正式开始运转时，其基本流程是：
1.产品传送到真空反应腔体内；
2.真空泵将腔体内的环境抽到接近真空状态；
3.输入反应需要的气体；
4.进行放电，产生等离子；
5.等离子轰击产品表面，完成处理。
当产品的处理完成之后，腔体内会还原到标准的大气压环境。而下料装置会把产品输送到指定位置。
这个流程大约在10到600秒之间不等，这主要取决于不同的工艺和处理的产品等方面。
正是因为半导体行业的高要求，而连续性等离子清洗机又能很好的符合这一要求，才体现出来连续性等离子清洗机在半导体行业的重要性。
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连续式等离子清洗机的类型其实很多，主要是以放电形式和上下料自动动作来区分的。按照放电形式，可分为PE模式和RIE模式，这是与功率电极的连接、电极结构和产品放置相关的；按照上下料的方式，有平台交互式、抽屉式和一进一出式。
先就设备本身而言，连续式等离子清洗机它的主要组成部分有：上下料自动装置、真空系统、等离子发生器、气路控制和真空等离子反应腔体。
1.产品传送到真空反应腔体内；
2.真空泵将腔体内的环境抽到接近真空状态；
3.输入反应需要的气体；
4.进行放电，产生等离子；
5.等离子轰击产品表面，完成处理。
当产品的处理完成之后，腔体内会还原到标准的大气压环境。而下料装置会把产品输送到指定位置。
这个流程大约在10到600秒之间不等，这主要取决于不同的工艺和处理的产品等方面。
正是因为半导体行业的高要求，而连续性等离子清洗机又能很好的符合这一要求，才体现出来连续性等离子清洗机在半导体行业的重要性。
